2020년 중국특허법 제4차 개정안이 통과되어, 2021.6.1.부터 시행되었습니다.

이번 특허법 개정은 지난 개정이후 12년이 지난 시점에 이루어진 제4차개정으로 많은 새로운 제도가 도입되였으며 특허권에 대한 보호가 더욱 강화되였습니다.

그 중에서 한국 출원인이 중국에서의 IP전략에 영향을 미칠 수 있는 주요 내용은 하기와 같습니다.

1.특허권자의 합법적 권익 보호 강화

고의적인 특허침해행위에 대해서，상황이 심각한 경우 배상액을 1배이상 5배이하로 확정할 수 있게 하여 징벌적 배상제도를 새로 도입하고, 법정배상액의 상한을 인민폐 3만원 이상 5백만원으로 (현행 1만원 이상 1백만원 이하) 상향 조정하였습니다.

2.부분 디자인제도 도입, 디자인권 보호기간을 15년으로 연장

디자인특허의 보호대상을 제품의 일부에 대해서도 보호받을 수 있게 하여 보호범위를 확대하였습니다.

디자인특허권의 보호기간을 15년으로 연장(현행 10년)하고. 디자인특허출원에도 국내우선권을 주장할 수 있게 하여 국내에 디자인특허출원한 날로부터 6개월 내에 동일한 내용에 대하여 국내에서 디자인특허출원하는 경우에 우선권을 향유할 수 있습니다.

이 밖에 우선권주장을 위한 최초 출원서류 부본제출기간을 발명 및 실용신안특허출원은 최초 출원일로부터 16개월로, 디자인특허출원은 출원일로부터 3개월로 연장하였습니다.

3.심사제도에 따른 기간 보상제도 도입

심사기간의 지연이 발생되였을 때 특허권자에 일정한 보상을 주기 위해 “발명특허 출월일부터 만 4년, 실질심사 청구일로부터 만 3년후에 발명특허권이 수여된 경우”에 한하여 심사기간에 불합리한 지연이 발생하면 특허유효기간의 보상을 청구할수 있도록 규정하였습니다. 하지만 이번 개정에서 새로 도입된 조항이므로 “불합리한 지연”의 판단기준은 앞으로 특허법실시세칙이나 특허심사지침서에서 명확히 해야 할 것으로 사료됩니다.

출처: JW IP LAW FIRM